Question 1

Solution de contrôle de pression de vide de haute précision (pression positive et négative) pour réacteur en verre double couche

Accepted Answer

1. Qu'est-ce qu'un réacteur en verre double couche ?

Le réacteur en verre double couche est conçu avec du verre double couche. La couche interne peut être placée dans le solvant de réaction pour remuer la réaction, et la couche intermédiaire peut être passée à travers différentes sources de froid et de chaleur (liquide réfrigéré, eau chaude ou huile chaude) pour une réaction de chauffage ou de refroidissement cyclique.

Dans le réacteur en verre hermétique, dans les conditions de température constante définies, la réaction d'agitation peut être effectuée sous vide jusqu'à une pression légèrement positive selon les besoins et le reflux et la distillation de la solution réactionnelle peuvent être effectués. C'est un équipement de fabrication idéal pour les usines modernes de chimie fine, les produits biopharmaceutiques et la synthèse de nouveaux matériaux.

Le réacteur en verre double couche est le même que les autres réacteurs. La pression du vide est une variable de contrôle importante dans le processus de réaction. Différents processus de réaction nécessitent souvent des valeurs différentes de vide (pression négative) ou de pression (pression positive).

Cependant, dans la grande majorité des réacteurs à cuve agitée en verre, il existe actuellement de graves lacunes dans le contrôle précis de la pression du vide, qui se reflètent principalement dans les aspects suivants :

Il n'existe pas de méthode de contrôle automatique et beaucoup d'entre eux reposent uniquement sur l'extraction de pompes à vide et une intervention manuelle, ce qui ne peut qu'améliorer l'environnement de vide simple mais ne peut pas atteindre le contrôle.
Certains contrôleurs de pression à vide adoptent également un mode de contrôle d'admission d'air de type commutateur, la pression à vide fluctue considérablement et souvent beaucoup d'entre eux ne peuvent pas atteindre le contrôle du programme.
La méthode de contrôle est unique et il est impossible de contrôler le degré de vide sur toute la plage (1 Pa ~ 0,1 MPa), et elle ne peut être contrôlée que dans une certaine plage. De plus, la plupart des réacteurs à cuve agitée en verre ne disposent pas de capacités d'alimentation et de contrôle de pression micro-positive.
De nombreux réacteurs utilisent des vannes papillon ou des vannes à bille pour contrôler le débit de pompage. Pour les petits réacteurs en verre, la vitesse de réponse des vannes papillon et des vannes à bille est trop lente pour atteindre un contrôle précis de la pression du vide, en particulier lorsque la température change. Ce phénomène est particulièrement évident dans le processus réactionnel.
De même, une pompe à vide à vitesse réglable est également utilisée pour contrôler le degré de vide du réacteur. Cependant, il existe également un problème de vitesse de réponse lente, entraînant de grandes fluctuations de la pression du vide. De plus, seul le réglage du débit de pompage ne peut contrôler que la plage de vide faible (haute pression) proche d'une pression atmosphérique, et il est impuissant à contrôler la plage de vide plus élevé (basse pression).
De nombreux réacteurs ont des exigences strictes pour les pièces gazeuses (ou liquides), exigeant des vannes sanitaires (ou de qualité alimentaire), mais la plupart des vannes de régulation électriques actuelles ne peuvent pas répondre à cette exigence particulière.

Afin de résoudre les problèmes mentionnés ci-dessus dans le réacteur en verre double couche, cet article vous montrera une solution complète et mature, c'est-à-dire utiliserRégulateur de pression proportionnel de KAOLUet un contrôleur PID à double canal de haute précision, combiné à des jauges à vide de différentes plages, un réacteur, une pompe à vide et une source d'air à pression positive, constituent une boucle de contrôle en boucle fermée.

Grâce au mode bidirectionnel de contrôle simultané de l'amont et de l'aval (admission et échappement), le contrôle de programmation automatique de la gamme complète de vide et de micro pression positive peut être atteint, ce qui peut atteindre une précision de contrôle élevée et communiquer avec l'ordinateur hôte pour atteindre le contrôle central.

2. Méthode de contrôle de la pression du vide (pression positive et négative, haute et basse pression)

Généralement, nous prenons une pression atmosphérique standard (pression absolue de 1Bar ou 750 Torr) comme point de référence et stipulons qu'une pression inférieure à la pression atmosphérique standard est un environnement de pression négative ou de vide, et une pression supérieure à la pression atmosphérique standard est un environnement à pression positive (pression).

Ensuite, le contrôle de l’environnement de travail sous pression d’air du réacteur agité est un problème typique de contrôle de pression sous vide (pression positive et négative ou haute et basse pression).

Une méthode typique de contrôle des pressions positives et négatives est la méthode de l'équilibre dynamique, dont le principe est illustré à la figure 1.

Le principe de base de la méthode d'équilibre dynamique est que l'entrée et la sortie d'air dans le récipient sous pression contrôlée atteignent un certain équilibre. La ligne de flèche noire sur la figure 1 représente la direction du flux de gaz et la ligne de flèche rouge représente la transmission et la direction du signal électrique.

Parmi eux, la source d'air à haute pression est utilisée comme source de pression positive et la pompe à vide fournit une source de pression négative pour pomper l'air. Le régulateur de processus collecte le signal du capteur et le compare à la valeur définie pour ajuster simultanément l'ouverture des vannes d'entrée et de sortie afin que le débit d'entrée et de sortie puisse atteindre la valeur définie dans un état équilibré.

L’utilisation de la méthode de l’équilibre dynamique dans le contrôle de la pression du vide présente deux avantages principaux :

La plage de contrôle est vaste et peut atteindre un contrôle continu du vide à la pression positive.
Il offre une précision de contrôle élevée sur toute la plage. Lors du contrôle dans la plage de vide poussé (basse pression), l'ouverture de la soupape d'échappement est fixe et l'ouverture de la soupape d'admission est ajustée. Lors du contrôle dans une plage de vide faible ou de pression légèrement positive, l'ouverture de la soupape d'admission est fixe et l'ouverture de la soupape d'échappement est ajustée.

3. Solutions

Le dispositif de contrôle de la pression sous vide est principalement composé d'une source d'air à haute pression,Régulateur de pression proportionnel au vide de KAOLU, un capteur de pression à vide, un régulateur de processus PID et une pompe à vide.

Source d'air à haute pression
La source de gaz à haute pression fournit généralement du gaz à haute pression supérieure à la pression réglée pour le processus de contrôle de pression micro-positive. La source de gaz est généralement une bouteille de gaz à haute pression et une bouteille de gaz à haute pression produit du gaz à une pression fixe via une soupape de réduction de pression.

Cette pression fixe doit être légèrement supérieure à la pression micro-positive à contrôler. Si le réacteur doit uniquement être contrôlé dans la plage du vide (pression négative), une source de gaz à haute pression n'est pas nécessaire et l'atmosphère peut être utilisée directement.
Régulateur de pression proportionnel au vide de KAOLU
KAOLU 'Le régulateur de pression proportionnel au vide est une vanne de régulation électronique à réponse rapide, comprenant une vanne à pointeau électrique.KAOLU 'Le régulateur de pression proportionnel au vide convient au réglage de l'admission de petit débit. Pour les réacteurs en verre double couche de petit volume, les vannes de régulation d'entrée et de sortie peuvent utiliser directement des vannes à pointeau à commande électronique, tandis que pour les réacteurs de grand volume, des vannes à pointeau électroniques sont sélectionnées pour les vannes d'entrée.

L'heure d'ouverture complète deKAOLULe régulateur de pression proportionnel au vide est de 0,8 s. Le temps de réponse rapide est l’un des facteurs importants pour garantir la précision du contrôle.
Capteur de pression à vide
Le capteur est la clé de la mesure de la pression sous vide tout au long du processus de réaction, et sa précision de mesure détermine également la précision du contrôle de la température du réacteur et de la pression sous vide ainsi que l'efficacité du processus. Il est généralement recommandé d’utiliser un vacuomètre capacitif de haute précision.

Dans toute la plage de pression du vide, deux spécifications de jauges à vide capacitives (10Torr et 1000Torr) peuvent essentiellement couvrir toute la plage de la basse pression (vide) à la pression légèrement positive (haute pression), et elles peuvent également garantir la précision de la mesure × 0,25. % sous n'importe quelle pression de vide. La sortie du signal de la jauge à vide capacitive correspondant à la plage de mesure est généralement une tension cc de 0 ~ 10 V, et la tension de sortie a une relation linéaire avec la valeur de mesure du degré de vide.

Certains réacteurs utilisent une jauge Pirani pour mesurer dans la plage du vide, mais l'erreur de mesure de la jauge Pirani est relativement importante et le signal de tension de sortie correspondant a une relation non linéaire avec le degré de vide, donc la jauge Pirani est généralement utilisée pour la mesure et le réacteur. le contrôle de la pression du vide ne nécessite pas une grande précision de contrôle.

Une attention particulière doit être accordée au fait que la capacité de mesure de pression positive de la jauge à vide capacitive est très limitée et que la jauge Pirani ne peut pas mesurer la pression positive. Si un contrôle de pression positive doit être effectué, un capteur de pression positive avec une précision correspondante est requis.
Régulateur de processus PID
Le régulateur de processus est la clé pour atteindre le contrôle de la pression du vide, et sa précision d'acquisition et sa précision de réglage déterminent la précision du contrôle final de la pression du vide. Cette solution utilise un régulateur de procédé PID à double canal de très haute précision, dans lequel deux canaux indépendants sont utilisés pour régler respectivement la vanne d'entrée et la vanne de sortie.

Chaque canal est configuré avec des opérations AD 24 bits, DA 16 bits et des opérations à virgule flottante double précision, qui peuvent atteindre un pourcentage de sortie minimum de 0,01 %. Il s'agit du plus haut niveau de configuration pour les régulateurs PID industriels au monde. Il s'agit également d'une vanne de régulation électronique, qui peut facilement atteindre une précision de contrôle de la pression du vide supérieure à ± 1 %.

Le régulateur de processus PID double canal de très haute précision possède des fonctions puissantes. Les paramètres PID peuvent être auto-réglés et plusieurs ensembles de paramètres PID peuvent être stockés pour répondre aux besoins de différents processus de réaction. Il dispose également d'un protocole de communication standard MODBUS, et le contrôle de plusieurs régulateurs peut être atteint via l'ordinateur hôte de contrôle central. Le logiciel informatique fourni avec la machine peut effectuer des réglages à distance, l'acquisition de données, l'affichage et le stockage du contrôleur PID, ce qui facilite grandement le débogage du système de contrôle de pression sous vide.

4. Conclusion

En résumé, la solution de contrôle précis de la pression du vide proposée dans cet article peut non seulement répondre aux besoins de contrôle précis de la pression du vide (pression positive et négative) dans les réacteurs en verre double couche, mais peut également être utilisée dans d'autres réacteurs et compétences rotatives qui contrôle de la pression du vide.

La solution décrite dans cet article est un système de contrôle de pression et de vide avec une structure discrète. Le système de contrôle peut également être intégré en fonction des besoins et de la conception spécifique du réacteur. La vanne à commande électronique et le régulateur PID sont intégrés dans un instrument, ce qui est plus pratique pour l'ensemble du réacteur en matière de conception et de mise en kit.

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Question 2

Solution de contrôle précis du vide dans le réglage de l'épaisseur du liquide du microscope électronique à transmission en phase liquide

Accepted Answer

1. Qu'est-ce que le microscope électronique à transmission en phase liquide ?

Ces dernières années, la microscopie électronique à transmission en phase liquide basée sur la microscopie électronique à transmission, le micro-nano-traitement et les technologies de fabrication de couches minces a été utilisée pour construire des plates-formes de micro-expériences à diverses échelles de résolution nanométriques et développer de nouvelles techniques de nano-caractérisation et des technologies associées. des champs. Nous proposons ici un moyen efficace. Comme le montre la figure 1, une cellule liquide standard est une micropuce de silicium dotée de deux fenêtres en film de nitrure de silicium (SiN) électroniquement transparentes soutenues par un matériau isolant, entre lesquelles un échantillon liquide est rempli.

Théoriquement, l'épaisseur du liquide peut être réglée par un espaceur entre les micropuces, mais dans l'observation réelle, la micropuce doit être placée dans un environnement ultra-vide du microscope électronique à transmission, de sorte que la pression à l'intérieur et à l'extérieur de la fenêtre de la membrane est différent. Cela fera saillir et dilater la fenêtre de la membrane, entraînant une modification de l'épaisseur du liquide, et ce changement est souvent plusieurs fois supérieur.

Par conséquent, à moins que des bulles ne soient produites, cette variation d’épaisseur affectera sérieusement la résolution de l’observation. De plus, des piliers peuvent être utilisés pour relier les fenêtres de membrane supérieure et inférieure afin de minimiser l'expansion, mais ce type de pool de liquide d'épaisseur fixe ne peut pas être chargé avec différents échantillons pour l'observation, ce qui n'est ni universel ni applicable.

On peut voir que la déformation convexe et l'expansion du pool liquide dans l'environnement ultra-vide du microscope électronique à transmission sont en fait une caractéristique utilisable. Grâce à cette expansion, des échantillons liquides de différentes épaisseurs peuvent être obtenus à condition de garantir que la haute résolution soit plus polyvalente et applicable à l'observation d'une variété d'échantillons liquides. Cependant, le principe selon lequel l’épaisseur du liquide peut être ajustée est qu’elle peut être contrôlée avec précision.

Par conséquent, afin d’atteindre l’épaisseur réglable d’un échantillon liquide dans le microscope électronique en phase liquide, il est nécessaire d’essayer de contrôler avec précision la différence de pression entre l’intérieur et l’extérieur de la fenêtre membranaire du pool liquide. Cet article présentera les solutions correspondantes pour le contrôle du degré de vide à l’intérieur de la piscine liquide. Le contrôle de haute précision du degré de vide adoptera la méthode d'équilibre dynamique, qui peut atteindre une précision de contrôle de ± 1 % sous n'importe quel degré de vide dans la plage de 0,1 à 100 kPa et peut être réglé avec précision et contrôler constamment l'épaisseur de l'échantillon liquide.

2. Solutions

La solution décrite dans cet article utilise également la méthode d'équilibre dynamique mentionnée ci-dessus pour contrôler le degré de vide de l'échantillon liquide. La différence est qu'il est affiné davantage et que le plan de mise en œuvre spécifique et la description détaillée sont donnés.

Selon la plage de contrôle du degré de vide correspondant à l'ajustement de l'épaisseur du liquide décrite dans la littérature ci-dessus, nous avons d'abord déterminé que la plage de contrôle du degré de vide que la solution doit couvrir est de 0,1 à 100 kPa, ce qui peut essentiellement satisfaire tous les échantillons de liquide sous le liquide. microscope électronique à transmission de phase. En outre, il est nécessaire d'ajuster l'épaisseur, tandis que la précision du contrôle du degré de vide doit être meilleure que ± 1 %. L'appareil est illustré à la figure 2.

Le système de contrôle du degré de vide pour l'ajustement de l'épaisseur de l'échantillon liquide dans le microscope électronique en phase liquide illustré à la figure 4 comprend principalement des jauges à vide,Régulateur de pression proportionnel de KAOLU, pompes à vide, contrôleurs de pression à vide, ordinateurs et leurs logiciels, leurs fonctions respectives et leurs détails décrits comme suit :

Jauge à vide
utilisé pour mesurer avec précision le degré de vide des échantillons liquides. La jauge à vide adopte une jauge à vide à condensateur à couche mince avec une précision de mesure élevée. Afin de répondre aux besoins de mesure du vide à grande échelle, deux vacuomètres de plages différentes sont équipés.
Régulateur de pression proportionnel de KAOLU
utilisé pour ajuster avec précision le débit d’admission et d’échappement.KAOLULe régulateur de pression proportionnel de est une vanne à pointeau à grande vitesse entraînée par un moteur pas à pas. Il peut ajuster avec précision et rapidité l'ouverture de la vanne à pointeau en moins de 1 s grâce à un signal de tension analogique de 0 ~ 10 V pour atteindre un réglage de débit de haute précision. Il est très approprié pour les petites tailles de contrôle du vide dans l'espace. Nous équipons deuxRégulateurs de pression proportionnels série QKLpour ajuster respectivement le débit d'admission d'air et d'échappement pour atteindre un contrôle de haute précision du degré de vide.
Pompe à vide
Il est utilisé comme source de vide. La pompe à vide utilisée comme source de vide adopte généralement une pompe à vide sèche à faible pollution et réduit l'impact des vibrations et du bruit sur l'ensemble du microscope électronique à transmission.
Contrôleur de pression à vide
Il est utilisé pour recevoir le signal de mesure de la jauge à vide et contrôler automatiquement leRégulateur de pression proportionnelselon la valeur définie du degré de vide par PID afin que le degré de vide de l'échantillon liquide puisse rapidement atteindre la valeur définie et la maintenir constante pendant une longue période.

Pour un contrôle du vide poussé dans la plage de 0,1 à 1 kPa, le contrôleur doit collecter le signal du vacuomètre 1 avec une plage de 10 Torr et, en même temps, fixer le régulateur de pression proportionnel pour l'échappement à un état complètement ouvert, le contrôleur ajuste automatiquement l'ouverture du régulateur de pression proportionnel pour l'admission d'air.

Pour un contrôle du faible degré de vide compris entre 1 et 100 kPa, le contrôleur doit collecter le signal du vacuomètre 2 avec une plage de 1 000 Torr et, en même temps, fixer le régulateur de pression proportionnel pour l'entrée d'air à un certain état d'ouverture. et le contrôleur contrôle le régulateur de pression proportionnel pour l'échappement. L'ouverture est automatiquement ajustée. Afin d'atteindre ce type de contrôle du degré de vide dans une large plage, il est équipé d'un double canal indépendantKAOLURégulateur de pression proportionnel de haute précision de la série QKL. Les deux voies correspondent à l'acquisition du signal de deux vacuomètres et forment deux voies indépendantes. La boucle de contrôle en boucle fermée contrôle automatiquement le degré de vide dans différentes plages.
Ordinateur et logiciels
L'ordinateur est utilisé pour communiquer avec le contrôleur de pression à vide, et le logiciel informatique peut effectuer divers réglages de paramètres, contrôle des opérations, affichage numérique, affichage graphique, stockage et appel du contrôleur de pression à vide via le formulaire d'interface. Bien que le contrôleur de pression de vide puisse être utilisé seul pour contrôler le degré de vide, il doit être actionné manuellement via les boutons du contrôleur, ce qui est compliqué à utiliser, mais il est plus intuitif et simple de faire fonctionner le contrôleur via un logiciel informatique.

Afin de répondre aux exigences de haute précision en matière d'ajustement et de contrôle de l'épaisseur des liquides, les principaux indicateurs techniques des composants clés ci-dessus sont les suivants :

Jauge à vide
Jauge à vide capacitive à couche mince, les plages de mesure sont respectivement de 10 Torr et 1 000 Torr, et la précision de toute valeur de mesure du vide est de 0,25 %.
Régulateur de pression proportionnel de KAOLU
Il est entraîné par un moteur pas à pas, le signal de commande est un signal analogique de tension ou de courant, le temps de réponse total de complètement fermé à complètement ouvert est inférieur à 1 s, la répétabilité est meilleure que ± 0,1 % et le noyau de valve a une résistance à la corrosion. .
Contrôleur de pression à vide
AD 24 bits, DA 16 bits, pourcentage de sortie minimum de 0,01 %, paramètres PID avec fonction d'auto-réglage, communication RS 485 et protocole de communication MODBUS standard, équipé d'un logiciel de contrôle informatique.

3. Conclusion

La microscopie électronique à transmission en phase liquide est devenue une technique de base pour la surveillance en temps réel des processus de nanomatériaux dans les liquides. En raison de la différence de pression entre le liquide et le vide poussé du microscope électronique à transmission, la fenêtre de la membrane en nitrure de silicium est généralement pliée, ce qui peut être ajusté en ajustant le pool de liquide. La pression du vide est utilisée pour ajuster dynamiquement l’épaisseur du liquide, ce qui donne lieu à une couche de liquide ultra-mince dans la région centrale de la fenêtre pour une imagerie haute résolution.

Grâce à la solution proposée dans cet article, un dispositif indépendant de contrôle du degré de vide peut être construit pour l'ajustement automatique et le contrôle constant de diverses épaisseurs d'échantillons liquides de micropuces en microscopie électronique à transmission liquide et peut atteindre une précision de contrôle élevée. De plus, le contrôle automatique du vide de haute précision à l'intérieur du pool de liquide offre également la possibilité d'un changement dynamique de l'épaisseur du liquide selon le programme, ce qui est très bénéfique pour surmonter la limitation de diffusion et atteindre la condition de dissolution globale.

En résumé, la solution fournit une méthode fondamentale pour mesurer et ajuster dynamiquement l'épaisseur du liquide en utilisantRégulateur de pression proportionnel de KAOLU, permettant de nouveaux modèles expérimentaux et un meilleur contrôle de la chimie des solutions.

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Question 3

Solution de contrôle de la pression sous vide dans le processus d’extraction à froid de l’azote des boissons au café et au thé

Accepted Answer

Infusion à froid, l'équivalent de l'infusion chaude traditionnelle du café et du thé, existe dans le monde entier depuis de nombreuses années et est populaire pour sa texture et son goût uniques. Le processus de production de boissons infusées à froid est basé sur le principe de l'extraction à basse température, c'est-à-dire que sous vide, le point d'ébullition de l'eau est bien inférieur à celui de la pression normale (100°C) pour brasser des boissons à basse pression et température.

De plus, les boissons enrichies en azote apparues ces dernières années sont remplies d'azote à haute pression après infusion à froid, ce qui a considérablement modifié la texture, le goût et les effets visuels des boissons comme le café et le thé.

(Figure 1 Schéma de principe de la solution de contrôle automatique de la pression du vide)

La solution représentée sur la figure 1 peut contrôler séparément le degré de vide et la haute pression du récipient de boisson, dans laquelle un manomètre et un manomètre sont utilisés pour mesurer respectivement le degré de vide dans le récipient de boisson et la pression d'azote pendant le remplissage d'azote.

Dans la solution ci-dessus, deux boucles de contrôle en boucle fermée sont conçues respectivement pour le contrôle du degré de vide et de la pression. Afin de réduire les coûts et le volume, la partie commune de ces deux boucles en boucle fermée est constituée des vannes et des contrôleurs d'entrée et de sortie, et la partie indépendante est constituée de vacuomètres et de manomètres.

(1) Contrôle automatique du degré de vide

Lors du contrôle du degré de vide, allumez d'abord la pompe à vide et la source d'air à haute pression. À ce stade, la source d’air haute pression peut ne pas être connectée ou l’atmosphère à pression normale peut être utilisée. Lorsque le débit de sortie de gaz du conteneur est supérieur au débit d'admission d'air, un vide à basse pression se formera naturellement dans l'état du conteneur.

Ensuite, le contrôleur effectue une comparaison en fonction de la valeur de vide ou du programme défini et du signal du vacuomètre collecté. Le contrôleur émet le signal de contrôle selon l'algorithme de contrôle PID en fonction de la différence après comparaison, et ajuste l'ouverture de la soupape d'admission d'air et de la soupape d'échappement en même temps. La valeur mesurée du vacuomètre s'approche rapidement et est égale à la valeur définie, réalisant ainsi l'ajustement dynamique du contrôle du degré de vide.

Il convient de noter que, étant donné que différents cafés et thés ont des exigences différentes en matière de degré de vide et de vitesse de changement au cours du processus de préparation à basse température, le contrôleur doit avoir une fonction de conception programmable et la vanne doit avoir une vitesse de réglage plus rapide.

(2) Contrôle automatique de la haute pression de remplissage d'azote

Après avoir terminé le processus de contrôle du degré de vide et le processus de brassage à basse température, le processus de remplissage d'azote et le processus de contrôle à haute pression peuvent être directement effectués, et la pompe à vide peut être éteinte à ce moment. Lorsque le débit de sortie d'air du récipient est inférieur au débit d'admission d'air, un état de haute pression se formera naturellement dans le récipient de boisson hermétique.

De même, le contrôleur compare les signaux du manomètre collectés en fonction de la valeur de pression réglée ou du programme. Le contrôleur émet le signal de commande selon l'algorithme de contrôle PID en fonction de la différence après comparaison, et ajuste simultanément l'ouverture de la soupape d'admission d'air et de la soupape d'échappement, de sorte que la valeur mesurée du manomètre s'approche rapidement et soit égale à la valeur définie, réalisant ainsi la dynamique du contrôle haute pression.

Il convient également de noter que, étant donné que différents cafés et thés ont des exigences différentes en matière de pression et de vitesse de changement pendant le processus de remplissage d'azote, le contrôleur doit également avoir une fonction de conception programmable et la vanne doit également avoir une vitesse de réglage plus rapide.

Afin d'atteindre la réalisation technique du contenu de conception de la solution illustrée à la figure 1, conformément aux exigences de contrôle de pression sous vide ci-dessus, un système de contrôle de pression sous vide correspondant est configuré et la structure spécifique est illustrée sur la figure 2.

(Figure 2 Schéma schématique du système de contrôle automatique de la pression du vide)

Régulateur de pression proportionnel QKL-B4H de KAOLU est un dispositif utilisé pour maintenir ou contrôler la pression d'un fluide (tel qu'un gaz ou un liquide) dans une plage souhaitée. Il est couramment utilisé dans les processus industriels et de fabrication où le maintien d’une pression constante est essentiel pour garantir la qualité et la cohérence du produit final.

Régulateur de pression proportionnel QKL-B4H de KAOLU présente une vitesse élevée, une haute précision 0,05 % FS et une haute résolution 1 kPa, et surtout ultra-stable à la pression cible. Les clients ont utilisé notre contrôleur électronique pour remplacer le coûteux contrôleur de pression dekstop (consulter pour les spécifications personnalisées).

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Question 4

Application du régulateur de pression proportionnel et de la vanne de régulation de débit proportionnelle au contrôle à basse température de l'azote liquide en écoulement

Accepted Answer

Pour le contrôle cryogénique de la température dans la plage de température de l’azote liquide, les deux méthodes suivantes couramment utilisées sont actuellement utilisées :

(1) Type à immersion directe : c'est-à-dire que l'éprouvette est complètement immergée dans l'azote liquide pour le refroidissement et le contrôle de température correspondant, mais de cette manière, la température de refroidissement de l'éprouvette ne peut pas être contrôlée et ajustée dans une large plage de températures basses. Il ne peut être ajusté et contrôlé que dans une petite plage en contrôlant la pression de l'azote liquide à une température proche de -196°C.

De plus, la méthode d'immersion directe n'attend souvent pas que l'éprouvette atteigne le temps de refroidissement et de maintien, et l'azote liquide s'est pratiquement complètement volatilisé. Dans le même temps, ce type de méthode d'exploitation est relativement simple et présente des exigences élevées pour les opérateurs réels, et des accidents de sécurité peuvent survenir en cas de légère négligence.

(2) Méthode de purge à l'azote liquide : c'est-à-dire utilisation directe d'azote liquide à débit contrôlable ou d'azote liquide gazeux pour la purge afin d'ajuster et de contrôler la température à basse température de l'éprouvette. Lorsque la méthode de purge est utilisée pour le contrôle cryogénique de la température, le débit d’azote liquide ou d’azote liquide est directement lié à la stabilité et à la fiabilité de la température de l’éprouvette.

Dans le même temps, le contrôle du débit de fluide à basse température a toujours été un point difficile et douloureux dans l'industrie, qui nécessite que tous les composants enKAOLU Régulateur de pression proportionnelsur le pipeline à basse température doit avoir de bonnes caractéristiques de résistance à basse température, et le prix est très cher. Certains contrôles rudimentaires à basse température utilisent des vannes de commutation à basse température pour le contrôle marche-arrêt. Bien que le coût de la vanne soit réduit, la précision de contrôle de ce mode de commande de commutateur est extrêmement mauvaise.

De plus, la sortie du milieu à basse température est en contact direct avec l'éprouvette ou l'air dans l'échangeur thermique, et la vapeur d'eau dans l'air gèle rapidement lorsqu'elle est refroidie. À mesure que le temps de refroidissement augmente, la sortie du fluide à basse température est facilement bloquée par le gel. Il existe un besoin urgent de développer un dispositif de test capable d’atteindre un contrôle à très basse température du dispositif de contrôle central à température ambiante.

Afin de résoudre les problèmes liés au procédé de purge à l'azote liquide mentionné ci-dessus, cet article propose trois solutions pour un contrôle de température à large plage de température de l'azote liquide avec une précision différente. Le cœur technique de la solution est d'atteindre un contrôle précis de la température à basse température en ajustant le débit ou la pression de la source de gaz à température ambiante, et il n'est plus nécessaire deKAOLU Régulateur de pression proportionnelavoir une résistance à basse température. Dans le même temps, sur la base des deux solutions techniques ci-dessus, une troisième solution sous forme de chauffage électrique sera ajoutée, permettant ainsi d'atteindre un contrôle de température à basse température de plus grande précision.

Le principe et l'analyse

Dans la méthode traditionnelle de purge de contrôle de température cryogénique à l'azote liquide, il est courant d'ajuster directement le débit de purge du milieu cryogénique d'azote liquide, et en même temps de combiner le capteur de température et le contrôleur PID pour former une boucle de contrôle en boucle fermée, et enfin atteindre le contrôle de la température cryogénique en contrôlant le débit.

En analysant la méthode traditionnelle de purge à l'azote liquide mentionnée ci-dessus, on peut constater que le principe de base de la purge du milieu à basse température est de former une pression d'air plus élevée dans le réservoir d'azote liquide (stockage cryogénique Dewar) pour forcer l'azote liquide ou l'azote liquide à déborder dans la canalisation réglée pour former le fluide à basse température, et enfin le contrôle à basse température est effectué en ajustant la vitesse d'écoulement. Par conséquent, le gaz à haute pression dans le réservoir d’azote liquide est la clé de tout cela.

Tant que la pression du gaz peut être ajustée, des fluides à basse température avec différents débits peuvent également être formés dans la canalisation fixe pour atteindre l'objectif de contrôle de la température. Dans le même temps, cette méthode de réglage de la pression du gaz dans le réservoir d'azote liquide peut être atteinte à température ambiante, évitant ainsi la nécessité d'utiliser des vannes de régulation cryogéniques électriques spéciales et coûteuses pour le contrôle direct du débit du fluide cryogénique.

Sur la base de l'analyse ci-dessus, cet article conçoit les trois schémas de contrôle à basse température suivants et peut atteindre différentes précisions de contrôle.

Schéma de contrôle du débit d'admission d'air

Pour tout conteneur ayant une certaine taille d'espace, sa pression interne peut être attribuée à un état d'équilibre dynamique atteint par le flux d'entrée et de sortie. Par conséquent, si la pression du gaz dans le réservoir d’azote liquide doit être contrôlée, l’une des méthodes efficaces consiste à ajuster le débit de gaz entrant et sortant du réservoir d’azote liquide pour atteindre un équilibre dynamique.

Il convient de noter que dans le système de contrôle à basse température actuel, la sortie de liquide ou la sortie de gaz du réservoir d'azote liquide est souvent directement connectée au pipeline de refroidissement de l'éprouvette. Si le débit de fluide basse température est directement contrôlé à la sortie du réservoir d’azote liquide, une vanne cryogénique est nécessaire. À ce stade, l'ouverture de sortie d'air peut être maintenue constante sans ajuster le débit, et seul le débit d'admission du réservoir d'azote liquide peut être ajusté. Le schéma spécifique est illustré à la figure 1.

On peut voir sur la figure 1 que le gaz à haute pression (généralement de l'azote) traverse le réducteur de pression pour former un gaz à pression fixe, et que le gaz à haute pression à température ambiante s'écoule à travers la vanne à pointeau électrique et le tuyau d'admission. dans l'azote liquide dans la bouteille de Dewar. Une fois que le gaz à haute pression à température ambiante entre dans l’azote liquide, l’azote liquide est évaporé et volatilisé en gaz. Le gaz volatil circule à travers l'échangeur de chaleur du dispositif de test via le tuyau de sortie de gaz tout en augmentant progressivement la pression dans le flacon Dewar scellé.

Décharge après le changeur. On peut voir qu'en ajustant la vanne à pointeau électrique installée sur la canalisation d'admission d'air, plus l'ouverture de la vanne à pointeau est grande, plus le débit d'entrée d'air est rapide, plus la volatilisation de l'azote liquide est intense, plus la pression est élevée. dans la bouteille de Dewar, et enfin le débit. Plus le débit du fluide à basse température dans l'échangeur de chaleur est rapide, plus la vitesse de refroidissement correspondante est rapide. Une autre caractéristique principale de cette solution est que la vanne à pointeau électrique peut fonctionner à température ambiante.

On peut voir que la solution pour ajuster le débit d'air d'admission à température ambiante consiste à former une boucle de contrôle en boucle fermée à basse température à travers la vanne à pointeau électrique, le capteur de température et le contrôleur de programme PID, de sorte que le contrôle ou le programme à point fixe le contrôle de la température à basse température peut être atteint. Cependant, le problème avec cette solution est que la précision du contrôle de la température est médiocre et qu'il y aura généralement des fluctuations de température de 2 à 5 °C. Les principales raisons sont les suivantes :

(1) En raison d'un certain débit de gaz à haute pression, la pression dans la bouteille de Dewar change et le changement de pression modifie le débit du fluide de refroidissement. Le processus de sublimation et le processus de changement de pression sont plus compliqués, ce qui rend le débit et la pression d'admission plus élevés. Il ne s’agit pas d’une simple relation linéaire avec la température, qui est le principal facteur à l’origine d’un contrôle imprécis de la température. À moins que la vitesse de l'ensemble du processus de conditionnement soit très rapide, il s'agit souvent d'un processus lent en action.

(2) Cette méthode technique consistant à utiliser uniquement des fluides à basse température pour le contrôle de la température présente les inconvénients d'un refroidissement rapide et d'un chauffage lent. Une fois que la température réelle dépasse la température de consigne, il faut souvent un refroidissement lent de l'éprouvette pour atteindre le rétablissement de la température. C'est une autre raison pour laquelle le contrôle des basses pressions ne peut guère atteindre une plus grande précision.

Schéma de contrôle de la pression d'admission d'air

Afin de résoudre le problème de l'instabilité de la pression dans le processus de contrôle de débit mentionné ci-dessus, une autre solution proposée dans cet article consiste à contrôler directement la pression dans la bouteille de Dewar, c'est-à-dire à atteindre la pression de Dewar en ajustant et en contrôlant la pression de haute pression. -entrée de gaz sous pression à l'intérieur de la bouteille. Le schéma spécifique est illustré à la figure 2.

On peut voir sur la figure 2 que la pression du gaz à haute pression est contrôlée en fonction de la valeur définie à l'entrée d'air via un régulateur de pression proportionnel, garantissant ainsi que la pression dans la bouteille de Dewar est toujours dans un état contrôlé avec précision. Une boucle de contrôle en cascade à double boucle fermée composée d'un régulateur de pression proportionnel, d'un capteur de température et d'un contrôleur de programme PID (le régulateur de pression proportionnel est une boucle de contrôle auxiliaire, et le contrôleur PID est connecté au capteur de température et au mécanisme de régulateur de pression proportionnel dans le contrôle principal boucle).

Vous pouvez régler la pression de sortie du régulateur de pression proportionnel pour contrôler la pression du gaz dans le récipient Dewar, plus la pression dans le récipient Dewar est élevée, plus le débit du fluide à basse température circulant à travers l'échangeur de chaleur est rapide, et le taux de refroidissement correspondant est également plus rapide.

Par conséquent, le contrôleur PID ajuste automatiquement la pression du gaz dans le récipient Dewar en fonction du point de consigne ou du programme défini, de sorte qu'un contrôle plus précis de la température cryogénique puisse être atteint et que l'incertitude de contrôle provoquée par le processus de sublimation compliqué puisse être évitée. Par rapport au schéma de contrôle de débit mentionné ci-dessus, la structure du schéma de contrôle de pression est également très simple, ce qui améliore la précision de contrôle de température du système de contrôle de température, tout en conservant l'avantage de pouvoir s'ajuster à température ambiante.

Un autre avantage exceptionnel du système de contrôle de la pression est qu'il peut contrôler la basse température des éprouvettes de grande taille, principalement parce que le contrôle de la pression dans la bouteille Dewar d'azote liquide de grande taille est beaucoup plus pratique et précis que le contrôle du débit. Le schéma de contrôle du débit en raison de la limitation de la plage de réglage du débit par le calibre du régulateur de pression proportionnel, la vitesse de réponse lente du régulateur de pression proportionnel de grand diamètre entraînera également des erreurs dans le contrôle de la température.

Bien que le schéma de contrôle de la pression soit une mise à niveau du schéma de contrôle du débit, il améliore également la précision du contrôle de la température. Cela ne résout toujours pas les inconvénients d'un refroidissement rapide mais d'une récupération lente de la température dans la méthode de refroidissement unique, et il existe toujours des problèmes de précision limitée du contrôle de la température et de vitesse lente du contrôle de la température.

Schéma de contrôle de la pression d'admission auxiliaire du chauffage électrique

Afin de résoudre complètement le problème de la faible précision du contrôle de la température et de la vitesse lente provoqués par le bloc de refroidissement en mode de refroidissement unique mais par la lente récupération de la température. Cet article propose un autre schéma d'optimisation, c'est-à-dire basé sur le schéma de contrôle de la pression d'admission.

Un radiateur électrique est ajouté pour assurer la fonction de chauffage, fournissant ainsi un dispositif de chauffage actif pour coopérer avec le système de refroidissement pour former un système à double action de froid et de chaleur. Lorsque la température de l'éprouvette est inférieure à la valeur définie, le chauffage actif automatique effectue un réglage fin, de sorte que la température puisse revenir rapidement à la valeur définie. Cela peut également améliorer considérablement la précision du contrôle de la température. Le schéma spécifique est illustré à la figure 3.

Comme le montre la figure 3, le schéma d'optimisation consiste à ajouter un radiateur électrique sur la base du schéma illustré à la figure 2, c'est-à-dire à ajouter un canal de contrôle de la température avec une fonction de chauffage pur. Parallèlement, afin de soutenir la réalisation de cette fonction de chauffage, en plus de l'ajout d'un capteur de température, un régulateur PID double canal deSérie QKL de KAOLUest également utilisé.

En conséquence, deux boucles de contrôle indépendantes sont formées, une boucle contrôle la pression d'admission pour atteindre un réglage approximatif de la basse température, et l'autre boucle contrôle le chauffage pour atteindre un réglage précis de la basse température, garantissant ainsi la vitesse et la précision du contrôle de la température au niveau du niveau de température. en même temps.

La solution proposée dans cet article résout complètement le problème de la nécessité d'être équipé de vannes de régulation électriques basse température coûteuses dans le contrôle à basse température de la zone de température de l'azote liquide dans le passé, et résout également le problème de la mauvaise précision du contrôle de la température de vannes de commutation basse température.

Les trois solutions décrites dans cet article sont applicables et répondent au contrôle de la température de différentes exigences dans une large gamme de plages de température de l'azote liquide, et peuvent être sélectionnées et utilisées en fonction de situations spécifiques dans des applications pratiques. Parmi eux, la plage de contrôle de température applicable du schéma de contrôle du débit et de la pression est de 0°C~-150°C, tandis que la plage de température contrôlable du schéma de contrôle de la pression après la fonction de chauffage d'appoint est de 150°C~-150°C. , la température limite supérieure est ici principalement affectée par la détermination de la résistance à basse température du radiateur.

Tous les schémas de contrôle à basse température mentionnés ci-dessus ne s'appliquent qu'à la forme de purge de l'azote liquide gazeux, de sorte que la température n'est pas très basse, mais ils fournissent une référence technique pour le refroidissement à flux direct et le contrôle de la température du milieu d'azote liquide à basse température.

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Question 5

Solution de contrôle du vide de haute précision dans le processus de décongélation sous vide

Accepted Answer

Avec le développement de l'économie et l'amélioration du niveau de vie de la population, une attention croissante a été accordée au développement technologique dans le domaine de la production, du stockage, du transport et de la transformation des aliments. La décongélation sous vide et la technologie dérivée de décongélation par sublimation-réhydratation sous vide font partie de ces nouvelles technologies de transformation des aliments.

La technologie de décongélation sous vide utilise les caractéristiques de différentes pressions dans un état de vide et de différents points d'ébullition de l'eau. La vapeur d'eau formée lorsque l'eau bout dans une chambre à vide se condense en gouttelettes d'eau à la surface des aliments congelés à une température plus basse. La chaleur latente dégagée lors de la condensation de la vapeur est absorbée par les aliments surgelés, et finalement la température du produit surgelé monte jusqu'à décongeler.

Par rapport à d'autres méthodes de décongélation, la décongélation sous vide présente les avantages d'une vitesse de décongélation rapide, d'un effet de décongélation uniforme et d'une faible température de décongélation. De plus, les produits congelés se trouvent dans un environnement sous vide et pauvre en oxygène pendant le processus de décongélation, ce qui peut inhiber efficacement l'oxydation des aliments et la reproduction de certains micro-organismes aérobies, et réduire également la perte de qualité.

Avec les progrès de la technologie, une nouvelle méthode basée sur la technologie de décongélation sous vide est apparue : la méthode de décongélation par sublimation-réhydratation sous vide. La principale caractéristique de cette méthode est qu’elle peut être étendue et appliquée au processus de décongélation d’autres aliments surgelés tels que les fruits, les légumes, les aliments cuits et les produits aquatiques.

En résumé, l'un des avantages importants des méthodes de décongélation sous vide et de décongélation par sublimation-réhydratation sous vide est que les paramètres de décongélation (température et vide) peuvent être optimisés en fonction des caractéristiques des produits surgelés et de la consommation d'énergie, de manière à atteindre le meilleur état de décongélation. .

Afin de résoudre le problème selon lequel le degré de vide dans le processus de congélation sous vide ne peut pas être programmé et contrôlé automatiquement et avec précision, une solution spécifique est proposée dans cet article.

Le principe de base de la solution est d'utiliserRégulateur de pression proportionnel de KAOLUpour ajuster le débit d'admission d'air en fonction de différents réglages de pression de vide selon la méthode d'équilibre dynamique, et enfin atteindre le degré de vide de décongélation de divers produits congelés à n'importe quel réglage. Un contrôle précis du programme est effectué à des points fixes, rendant ainsi la technologie de décongélation sous vide plus largement applicable et une capacité d'assurance qualité.

2. Principe de la méthode d'équilibre dynamique pour le contrôle de la pression du vide

Dans le processus de contrôle de la pression du vide, la méthode de contrôle de précision la plus courante est la méthode de l'équilibre dynamique, comme le montre la figure 3. Son principe de base est basé sur l'équilibre dynamique entre le débit d'admission et le débit d'échappement, permettant ainsi un réglage précis des différents niveaux de vide. contrôle des réglages de pression.

(Schéma schématique du principe de la méthode d'équilibre dynamique pour le contrôle de la pression du vide)

3. Solutions

Le processus de fonctionnement du système de contrôle du vide consiste en ce que le contrôleur de pression du vide à double canal compare le signal collecté à partir du manomètre en fonction de la valeur définie du degré de vide ou du programme défini. Le contrôleur utilise l'algorithme PID pour calculer et émettre le signal de contrôle en fonction de la différence après comparaison, et le signal de contrôle entraîneRégulateur de pression proportionnel de KAOLUpour ajuster dynamiquement le débit d'admission d'air ou d'échappement, de sorte que le degré de vide dans la chambre à vide change, ce qui fait que la valeur mesurée de la jauge à vide s'approche immédiatement du point de consigne pour un contrôle automatique. La description de chaque composant du système de contrôle du degré de vide dans la solution est la suivante :

(1) Bien que la jauge à vide existante puisse être utilisée, afin de garantir la précision du contrôle du degré de vide, il est recommandé que la jauge à vide adopte une jauge à vide capacitive à couche mince de haute précision, et sa précision de mesure à n'importe quel degré de vide peut être meilleur que 0,3%.

De plus, afin de répondre à la décongélation sous vide de divers produits congelés, il est nécessaire de contrôler le degré de vide dans une plage de degrés de vide plus large, il est donc recommandé d'utiliser deux jauges à vide capacitives avec des plages différentes pour les couvrir. Les plages recommandées des deux vacuomètres sont 1Torr et 10Torr.

(2) Le système de contrôle du degré de vide adopteRégulateur de pression proportionnel de KAOLUpour régler respectivement le débit d'admission et d'échappement.Régulateur de pression proportionnel de KAOLUcombiné à deux jauges à vide avec des plages haute et basse, peut atteindre une précision de contrôle meilleure que 1 % dans la plage de vide complète. De plus, afin de garantir la précision du contrôle et la stabilité du vide,Régulateur de pression proportionnel de KAOLU doivent répondre à certaines exigences en matière de taux de fuite et de vitesse de réponse.

(3) Un autre instrument clé du système de contrôle du vide est un contrôleur de pression du vide à double canal de haute précision. Son canal de contrôle PID bidirectionnel indépendant forme un canal de contrôle à vide poussé avec un vacuomètre 1Torr et une vanne à pointeau électrique, et un vacuomètre 10Torr. Il forme un canal de contrôle à faible vide avec le robinet à tournant sphérique électrique. L'important est que chaque canal indépendant soit 24 bits AD, 16 bits DA et un pourcentage de sortie minimum de 0,01 %, ce qui peut garantir un contrôle précis de la pression du vide.

De plus, ce contrôleur dispose de la fonction d'auto-réglage des paramètres PID, qui peut rapidement atteindre une sélection raisonnable des paramètres PID. Il est équipé d'une interface de communication RS485 standard et d'un logiciel informatique, pratique pour communiquer avec l'ordinateur hôte et utiliser l'ordinateur hôte pour contrôler le réglage des paramètres, le fonctionnement et les variables de processus. Acquisition, affichage, stockage et rappel.

En bref, la solution de contrôle du degré de vide proposée dans cet article peut bien répondre à toutes les exigences de contrôle automatique et précis du degré de vide dans le processus de décongélation sous vide, et est très adaptée à la recherche sur le processus de décongélation sous vide en laboratoire et à l'équipement de décongélation sous vide pour le traitement d'un grand nombre de produits surgelés.

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Question 6

Système de vide de générateur d'harmoniques d'ordre élevé à laser pulsé et sa solution de contrôle précis

Accepted Answer

Ces dernières années, l'utilisation de lasers à impulsions ultracourtes pour exciter les gaz rares afin de générer des harmoniques d'ordre élevé fournit une source de lumière ultraviolette extrême simple et abordable pour les systèmes de spectroscopie photoélectronique à résolution temporelle et angulaire et l'imagerie par diffraction cohérente de la lumière ultraviolette extrême.

La génération d'harmoniques supérieures est un processus optique non linéaire extrême, dont la clé est de concentrer des impulsions laser intenses sur des concentrations contrôlables de gaz rares.

1.Question

Dans le processus de génération d'harmoniques d'ordre élevé, afin d'obtenir des effets d'application pratiques, le système de vide correspondant doit répondre aux exigences suivantes :

(1) Dans le processus de génération d'harmoniques d'ordre élevé, le changement des paramètres macroscopiques affectera la densité atomique et la fraction d'ionisation, et la correspondance de phase macroscopique correspondante peut être atteinte, de sorte que les paramètres macroscopiques tels que la longueur d'interaction effective, l'intensité du laser et le gaz peut être utilisé un réglage adaptatif de la pression pour modifier le spectre harmonique supérieur.

Lors de la modification de ces paramètres, non seulement l'ordre harmonique change, mais aussi la pondération spectrale change également, ce qui signifie que la pression du gaz (niveau de vide) à l'intérieur de la cellule à gaz doit être réglée avec précision et contrôlée de manière stable afin d'atteindre le niveau supérieur souhaité. génération harmonique.

(2) Étant donné que les harmoniques d’ordre élevé sont facilement absorbées par l’atmosphère, il est nécessaire que le chemin optique des harmoniques d’ordre élevé soit maintenu dans un état de vide poussé. On peut voir que le générateur d'harmoniques d'ordre élevé doit inclure deux zones avec des degrés de vide différents, l'une est la zone de faible vide à l'intérieur de la cellule à gaz avec une plage de pression absolue de 1 à 100 Torr, et l'autre est la pression absolue sur le chemin optique harmonique d'ordre élevé. Zone de vide poussé de l'ordre de 0,001 Pa.

Cet article proposera des solutions correspondantes pour le contrôle du degré de vide dans ces deux domaines différents, en particulier le contrôle stable et précis du degré de vide dans la zone de faible vide à l'intérieur de la cellule à gaz est présenté en détail.

2. Solutions

La chambre à vide est divisée en deux zones en fonction du degré de vide, qui sont respectivement utilisées pour la cellule à gaz et le chemin optique de transmission harmonique d'ordre élevé. Pour le contrôle du vide dans ces deux zones, les deux circuits de vide suivants sont utilisés.

(1) Circuit de contrôle du vide poussé du chemin optique

Dans le circuit à vide poussé de la chambre à vide, la canalisation d'échappement est directement reliée à la paroi de la chambre à vide, et le gaz dans la chambre à vide est pompé par une pompe moléculaire pour lui faire atteindre un vide poussé avec une pression absolue de 0,001. Pa, et utilisez une jauge Pirani pour surveiller les changements dans le vide.

Afin de prélever l'échantillon une fois le test terminé, il est nécessaire de gonfler la chambre à vide pour revenir à l'atmosphère à pression normale. Une valve de dégonflage électrique est disposée sur la paroi de la chambre à vide, et l'ouverture et la fermeture de la valve de dégonflage peuvent être contrôlées par le programme.

(2) Circuit de contrôle à faible vide de la cellule à gaz. La canalisation de vide est directement connectée au pool de gaz et forme un faible vide avec une bouteille de gaz à haute pression, une vanne à pointeau électrique pour régler le débit d'admission, une jauge de capacité,Régulateur de pression proportionnel de KAOLUpour régler le débit d'échappement, une pompe sèche et une boucle de contrôle du contrôleur de vide.

Il s'agit d'une méthode de contrôle d'équilibre dynamique permettant d'ajuster le débit d'admission et d'échappement afin d'atteindre le contrôle du degré de vide. La caractéristique de cette méthode est qu'elle peut atteindre un contrôle précis du degré de vide dans la plage de 1 Pa ~ 0,1 MPa, en particulier la combinaison d'un contrôleur de vide haute précision à double canal AD 24 bits et 16 DA bits, la précision du contrôle peut atteindre ± 1 %.

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